• Home
  • Over ons
  • Uw publicatie
  • Catalogus
  • Recensies
  • Help
  • Account
  • Contact / Impressum
Dissertatie - Publicatiereeks - Congresbundel - Vakboek - Collegedictaat/Studieboek - CD-Rom/DVD - Online Publicatie
Winkelmandje
Catalogus : Details

Manal Ali Deeb

Photo-assisted Kelvin Probe Force Microscopy Investigation of Three-dimensional GaN Structures

voorkantachterkant
 
ISBN:978-3-8440-8674-4
Reeks:Halbleitertechnik
Trefwoorden:Kelvin probe force microscopy; GaN structures; Surface photo voltage
Soort publicatie:Dissertatie
Taal:Engels
Pagina's:172 pagina's
Gewicht:255 g
Formaat:21 x 14,8 cm
Bindung:Softcover
Prijs:48,80 € / 61,10 SFr
Verschijningsdatum:Juli 2022
Kopen:
  » plus verzendkosten
Download:

Beschikbare online documenten voor deze titel:

U heeft Adobe Reader, nodig, om deze bestanden te kunnen bekijken. Hier vindt u ondersteuning en informatie, bij het downloaden van PDF-bestanden.

Let u er a.u.b. op dat de online-bestanden niet drukbaar zijn.

 
 DocumentDocument 
 Soort bestandPDF 
 Kosten36,60 EUR 
 ActiesTonen en kopen van het bestand - 56,3 MB (59014731 Byte) 
 ActiesKopen en downloaden van het bestand - 56,3 MB (59014731 Byte) 
     
 
 DocumentInhoudsopgave 
 Soort bestandPDF 
 Kostengratis 
 ActiesHet bestand tonen - 150 kB (153909 Byte) 
 Actiesdownloaden van het bestand - 150 kB (153909 Byte) 
     

Gebruikersinstellingen voor geregistreerde online-bezoekers

Hier kunt u uw adresgegevens aanpassen en uw documenten inzien.

Gebruiker:  niet aangemeld
Acties:  aanmelden/registreren
 Paswoord vergeten?
Aanbevelen:Wilt u dit boek aanbevelen?
Recensie-exemplaarBestelling van een recensie-exemplaar.
VerlinkingWilt u een link hebben van uw publicatie met onze online catalogus? Klik hier.
SamenvattingDespite the relatively advanced progress in the development of 3D GaN-based devices, there is a weak understanding of illumination-induced surface charge transfer processes (fast and slow processes occurring on different time scales). An insight understanding of the surface charge transfer process may lead to significant improvements in the performance of 3D GaN devices especially in sensor applications (as its performance is affected by its response and the recovery times). To date, most of the studies have been concentrated on the c-oriented GaN surface. Therefore this work investigates the behavior of fast and slow charge transfer processes of varying doping types and crystal orientation of 3D GaN structures, using surface photo-voltage measurements performed by photo-assisted Kelvin probe force microscopy:

The effect of various wavelengths of illumination on the SPV processes of n-type and p-type c-plane GaN micro-structure is presented in this work for the first time. The obtained results provide new additional information on the predominant processes of the studied phenomena separating contributions of the fast from slow surface states. The important role of silane injection during growth and surface treatment by phosphoric acid on the SPV behavior semi-polar facet of 3D GaN columns was demonstrated for the first time. According to the surface treatment, it can be considered an effective way to enhance the response of GaN nanostructure-based sensor devices. Moreover, our findings expand our knowledge of the illumination–induced charge transfer processes at the 3D GaN surface and add to some information that might be relevant in assessing the high performance of this material for applications in optoelectronic gas sensors.